射干覆盖地膜需要注意什么?

发布日期:2021-03-23 18:20

射干在栽种后的第二年和第三年,覆膜时间应在1月中旬,以利提高地温,促使射干早出苗,虽生长,延长生育期。覆膜前,应清除畦面上的废膜和一切杂物,随后松土深5~10厘米,行间应深些,株间应浅些;同时每亩施入复合肥30千克左右,在植株旁施下,并培土盖严。如土壤干燥,须浇透水,然后盖膜。

覆盖地膜是射干生产上的重要技术措施,而提高覆膜质量是搞好地膜覆盖栽培中的关键一环。地膜超薄易老化,且受覆膜后受农事频繁操作的影响,易于破损,故覆盖作物有效时间最多1年,因此,在射干生产周期内每年要更换地膜。不论是育苗定植,还是根茎栽种,盖膜的方法基本上是相同的,只是育苗定植因畦面上有苗株要在膜上破孔出苗和盖土封严苗孔,多两套工序而已。为了达到盖膜“平、紧、严”的标准,要先将地膜展开置于每畦苗株上,对着苗株开孔,然后套住苗株铺在畦面上。要注意使苗孔与根的部位对齐,以便在覆盖地膜拉平拉紧时,不致使苗与膜孔错位而损伤苗株,然后在畦面两侧和畦的两头培土,并封好苗孔。对覆膜大田要经常检查,及时封堵破损漏洞。