1.根域限制栽培的模式
目前常见的根域限制栽培模式有4种。
（1）沟槽式
采用沟槽式进行限根。挖深50厘米、宽100厘米的定植沟，有积涝风险的地区还需要在沟底再挖宽、深各为15厘米的排水暗渠。
用厚塑料膜(温室大棚用)铺垫定植沟、排水暗渠的底部与沟壁，排水暗渠内填充毛竹、硬枝、河沙与砾石(有条件时可用渗水管代替)，并和两侧的主排水沟连通，保证积水能及时排出。
（2）垄式
在地面铺垫塑料膜，在上面堆积营养土成垄，将葡萄种植在其中。生长季节在垄的表面覆盖黑色或银灰色塑料膜，保持垄内土壤水分和温度的稳定。垄的规格因栽培密度而不同，一般行距8米时，其垄的规格应为上宽100厘米、下宽140厘米、高50厘米。垄式限根栽培的优点是操作简单，但根域土壤水分变化比较大，生长容易衰弱，必须配备良好的滴灌系统；而且垄式栽培时根系全部在地面以上，冬季容易出现冻根现象，在北方产区应当慎用。
（3）垄槽结合式
将根域一部分置于沟槽内，一部分以垄的方式置于地上。一般以沟槽深度30厘米、垄高30厘米为宜。沟垄规格因行距而不同，一般行距8米时，沟宽100厘米，垄的下宽100厘米、上宽60～80厘米。垄槽结合模式既有沟槽式的根域水分稳定、生长中庸、果实品质好的优点，又有垄式操作简单、排水良好的好处，还能在很大程度上减少冬季冻根的风险。
（4）坑穴式
在地面以下挖出一定容积的坑，在坑内放置控根器，控根器下部用园艺地布做底，内填营养土后栽植葡萄苗。根域的容积以树冠投影面积计算，根域的范围控制在每平方米树冠投影面积0.125～0.2平方米，根域厚度以40～50厘米为宜。
2.根域限制栽培的配套措施
（1）配备肥沃的营养土
根域限制栽培模式下，根系分布范围被严格控制在树冠投影面积的1/5左右，深度也被限制在50厘米左右的范围。因而，须提供良好的土壤环境，可提高根域土壤有机质含量到20%以上、含氮量提高到2%以上，一般用优质有机肥与6～8倍量的熟土混合即可。
（2）配备良好的水肥供应系统
由于根域限制栽培模式下，植株无法获取限制区域以外的水分和矿质营养，因此在树形构建期和正常结果状态下的大量需肥期，应通过水肥一体化系统给与充分供应，以保证树形构建和果实发育的营养。
